Ⅰ ADS2012中的互感器在哪里
您好，
步骤一： ADS2012 破解版，安装。
步骤二：解压ADS_2012.8_crack下的EEsof_licence_tools_patch.rar，把解压出来的文件覆盖ADS安装目录EEsof_licence_tools->bin文件夹下的文件，重启电脑。
步骤三：打开ADS_2012.8_crack下的EEsof_licence_tools_patch文件夹，运行Imtools.exe，在系统设置栏目复制Ethernet Address框字符，
步骤四：找到ADS_2012.8_crack下的licence.lic，用记事本打开，把所有的FFFFFFFFFFFFFFFF替换成步骤三复制的字符，保存关闭。
步骤五：打开安装目录下的EEsof_licence_tools->bin文件夹，运行aglmmgr.exe，
点击ok。
步骤六：替换licence文件，点击Add找到步骤四的licence.lic，点击Next，稍作等待，到此，破解完成，可以正常使用了。
Ⅱ ADS仿真使用S参数，可是输出的S11和S22是以史密斯原图的形式给出，能不能怎么设置才能用坐标轴的形式表示
我记得默认仿真完弹出个空白窗口，然后在里面添加各种坐标形式的图就行了啊，只要你添加好了，以后变了参数还是会自动更新的
Ⅲ ads中版图怎样才能使分立元件之间的走线特性阻抗为50ohm
十八届五中全会提出了“创新、协调、绿色、开放、共享”的五大发展理念，集中反映了我们党对经济社会发展规律认识的深化，极大丰富了马克思主义发展观，为我们党带领全国人民夺取全面建成小康社会决战阶段的伟大胜利，不断开拓发展新境界，提供了强大思想武器。其重大意义正如全会所指出，这是关系我国发展全局的一场深刻变革，影响将十分深远。
创新发展是“十三五”时期经济结构实现战略性调整的关键驱动因素，是实现“五位一体”总体布局下全面发展的根本支撑和关键动力；协调发展是全面建成小康社会之“全面”的重要保证，是提升发展整体效能、推进事业全面进步的有力保障；绿色发展是实现生产发展、生活富裕、生态良好的文明发展道路的历史选择，是通往人与自然和谐境界的必由之路；开放发展是中国基于改革开放成功经验的历史总结，也是拓展经济发展空间、提升开放型经济发展水平的必然要求；共享发展是社会主义的本质要求，是社会主义制度优越性的集中体现，也是我们党坚持全心全意为人民服务根本宗旨的必然选择。
Ⅳ ADS射频仿真软件中，在电路图schematic窗口中，如何给电路上的一条信号线添加新的节点名
工具栏内有一个NAME的图标，点击即可添加节点名称
Ⅳ ADS的ADS软件的仿真分析法
2.1 高频SPICE分析和卷积分析（Convolution）
高频SPICE分析方法提供如SPICE仿真器般的瞬态分析，可分析线性与非线性电路的瞬态效应。在SPICE仿真器中，无法直接使用的频域分析模型，如微带线带状线等，可于高频SPICE仿真器中直接使用，因为在仿真时可于高频SPICE仿真器会将频域分析模型进行拉式变换后进行瞬态分析，而不需要使用者将该模型转化为等效RLC电路。因此高频SPICE除了可以做低频电路的瞬态分析，也可以分析高频电路的瞬态响应。此外高频SPICE也提供瞬态噪声分析的功能，可以用来仿真电路的瞬态噪声，如振荡器或锁相环的jitter。
卷积分析方法为架构在SPICE高频仿真器上的高级时域分析方法，借由卷积分析可以更加准确的用时域的方法分析于频率相关的元件，如以S参数定义的元件、传输线、微带线等。
2.2 线性分析
线性分析为频域的电路仿真分析方法，可以将线性或非线性的射频与微波电路做线性分析。当进行线性分析时，软件会先针对电路中每个元件计算所需的线性参数，如S、Z、Y和H参数、电路阻抗、噪声、反射系数、稳定系数、增益或损耗等（若为非线性元件则计算其工作点之线性参数），在进行整个电路的分析、仿真。
2.3 谐波平衡分析( Harmonic Balance)
谐波平衡分析提供频域、稳态、大信号的电路分析仿真方法，可以用来分析具有多频输入信号的非线性电路，得到非线性的电路响应，如噪声、功率压缩点、谐波失真等。与时域的SPICE仿真分析相比较，谐波平衡对于非线性的电路分析，可以提供一个比较快速有效的分析方法。
谐波平衡分析方法的出现填补了SPICE的瞬态响应分析与线性S参数分析对具有多频输入信号的非线性电路仿真上的不足。尤其在现今的高频通信系统中，大多包含了混频电路结构，使得谐波平衡分析方法的使用更加频繁，也越趋重要。
另外针对高度非线性电路，如锁相环中的分频器，ADS也提供了瞬态辅助谐波平衡(Transient Assistant HB)的仿真方法，在电路分析时先执行瞬态分析，并将此瞬态分析的结果作为谐波平衡分析时的初始条件进行电路仿真，借由此种方法可以有效地解决在高度非线性的电路分析时会发生的不收敛情况。
2.4 电路包络分析（Circuit Envelope）
电路包络分析包含了时域与频域的分析方法，可以使用于包含调频信号的电路或通信系统中。电路包络分析借鉴了SPICE与谐波平衡两种仿真方法的优点，将较低频的调频信号用时域SPICE仿真方法来分析，而较高频的载波信号则以频域的谐波平衡仿真方法进行分析
2.5 射频系统分析
射频系统分析方法提供使用者模拟评估系统特性，其中系统的电路模型除可以使用行为级模型外，也可以使用元件电路模型进行习用响应验证。射频系统仿真分析包含了上述的线性分析、谐波平衡分析和电路包络分析，分别用来验证射频系统的无源元件与线性化系统模型特性、非线性系统模型特性、具有数字调频信号的系统特性。
2.6 拖勒密分析（Ptolemy）
拖勒密分析方法具有可以仿真同时具有数字信号与模拟、高频信号的混合模式系统能力。ADS中分别提供了数字符件模型（如FIR滤波器、IIR滤波器，AND逻辑门、OR逻辑门等）、通信系统元件模型（如QAM调频解调器、Raised Cosine滤波器等）及模拟高频元件模型（如IQ编码器、切比雪夫滤波器、混频器等）可供使用。
2.7 电磁仿真分析(Momentum)
ADS软件提供了一个2.5D的平面电磁仿真分析功能——Momentum（ADS2005A版本Momentum已经升级为3D电磁仿真器），可以用来仿真微带线、带状线、共面波导等的电磁特性，天线的辐射特性，以及电路板上的寄生、耦合效应。所分析的S参数结果可直接使用于谐波平衡和电路包络等电路分析中，进行电路设计与验证。在Momentum电磁分析中提供两种分析模式：Momentum微波模式即Momentum和Momentum射频模式即Momentum RF；使用者可以根据电路的工作频段和尺寸判断、选择使用。
Ⅵ 毕业设计如何在ads上用同轴线实现巴特沃斯微波低通滤波器
具体要求有吗？
Ⅶ 求安捷伦ADS2009快捷键;Ansoft ——HFSS13快捷键,不胜感激
1、3DMAX2009快捷键大全
显示降级适配（开关） 【O】
适应透视图格点 【Shift】+【Ctrl】+【A】
排列 【Alt】+【A】
角度捕捉(开关) 【A】
动画模式 (开关) 【N】
改变到后视图 【K】
背景锁定(开关) 【Alt】+【Ctrl】+【B】
前一时间单位 【.】
下一时间单位 【,】
改变到上（Top）视图 【T】
改变到底(Bottom)视图 【B】
改变到相机(Camera)视图 【C】
改变到前（Front）视图 【F】
改变到等大的用户(User)视图 【U】
改变到右(Right)视图 【R】
改变到透视（Perspective）图 【P】
循环改变选择方式 【Ctrl】+【F】
默认灯光(开关) 【Ctrl】+【L】
删除物体 【DEL】
当前视图暂时失效 【D】
是否显示几何体内框(开关) 【Ctrl】+【E】
显示第一个工具条 【Alt】+【1】
专家模式�全屏(开关) 【Ctrl】+【X】
暂存(Hold)场景 【Alt】+【Ctrl】+【H】
取回(Fetch)场景 【Alt】+【Ctrl】+【F】
冻结所选物体 【6】
跳到最后一帧 【END】
跳到第一帧 【HOME】
显示/隐藏相机（Cameras） 【Shift】+【C】
显示/隐藏几何体(Geometry) 【Shift】+【O】
显示/隐藏网格(Grids) 【G】
显示/隐藏帮助(Helpers)物体 【Shift】+【H】
显示/隐藏光源(Lights) 【Shift】+【L】
显示/隐藏粒子系统(Particle Systems) 【Shift】+【P】
显示/隐藏空间扭曲(Space Warps)物体 【Shift】+【W】
锁定用户界面(开关) 【Alt】+【0】
匹配到相机(Camera)视图 【Ctrl】+【C】
材质(Material)编辑器 【M】
最大化当前视图 (开关) 【W】
脚本编辑器 【F11】
新的场景 【Ctrl】+【N】
法线(Normal)对齐 【Alt】+【N】
向下轻推网格 小键盘【-】
向上轻推网格 小键盘【+】
NURBS表面显示方式 【Alt】+【L】或【Ctrl】+【4】
NURBS调整方格1 【Ctrl】+【1】
NURBS调整方格2 【Ctrl】+【2】
NURBS调整方格3 【Ctrl】+【3】
偏移捕捉 【Alt】+【Ctrl】+【空格】
打开一个MAX文件 【Ctrl】+【O】
平移视图 【Ctrl】+【P】
交互式平移视图 【I】
放置高光(Highlight) 【Ctrl】+【H】
播放/停止动画 【/】
快速(Quick)渲染 【Shift】+【Q】
回到上一场景*作 【Ctrl】+【A】
回到上一视图*作 【Shift】+【A】
撤消场景*作 【Ctrl】+【Z】
撤消视图*作 【Shift】+【Z】
刷新所有视图 【1】
用前一次的参数进行渲染 【Shift】+【E】或【F9】
渲染配置 【Shift】+【R】或【F10】
在xy/yz/zx锁定中循环改变 【F8】
约束到X轴 【F5】
约束到Y轴 【F6】
约束到Z轴 【F7】
旋转(Rotate)视图模式 【Ctrl】+【R】或【V】
保存(Save)文件 【Ctrl】+【S】
透明显示所选物体(开关) 【Alt】+【X】
选择父物体 【PageUp】
选择子物体 【PageDown】
根据名称选择物体 【H】
选择锁定(开关) 【空格】
减淡所选物体的面(开关) 【F2】
显示所有视图网格(Grids)(开关) 【Shift】+【G】
显示/隐藏命令面板 【3】
显示/隐藏浮动工具条 【4】
显示最后一次渲染的图画 【Ctrl】+【I】
显示/隐藏主要工具栏 【Alt】+【6】
显示/隐藏安全框 【Shift】+【F】
*显示/隐藏所选物体的支架 【J】
显示/隐藏工具条 【Y】/【2】
百分比(Percent)捕捉(开关) 【Shift】+【Ctrl】+【P】
打开/关闭捕捉(Snap) 【S】
循环通过捕捉点 【Alt】+【空格】
声音(开关) 【\\】
间隔放置物体 【Shift】+【I】
改变到光线视图 【Shift】+【4】
循环改变子物体层级 【Ins】
子物体选择(开关) 【Ctrl】+【B】
帖图材质(Texture)修正 【Ctrl】+【T】
加大动态坐标 【+】
减小动态坐标 【-】
激活动态坐标(开关) 【X】
精确输入转变量 【F12】
全部解冻 【7】
根据名字显示隐藏的物体 【5】
刷新背景图像(Background) 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【B】
显示几何体外框(开关) 【F4】
视图背景(Background) 【Alt】+【B】
用方框(Box)快显几何体(开关) 【Shift】+【B】
打开虚拟现实 数字键盘【1】
虚拟视图向下移动 数字键盘【2】
虚拟视图向左移动 数字键盘【4】
虚拟视图向右移动 数字键盘【6】
虚拟视图向中移动 数字键盘【8】
虚拟视图放大 数字键盘【7】
虚拟视图缩小 数字键盘【9】
实色显示场景中的几何体(开关) 【F3】
全部视图显示所有物体 【Shift】+【Ctrl】+【Z】
*视窗缩放到选择物体范围（Extents） 【E】
缩放范围 【Alt】+【Ctrl】+【Z】
视窗放大两倍 【Shift】+数字键盘【+】
放大镜工具 【Z】
视窗缩小两倍 【Shift】+数字键盘【-】
根据框选进行放大 【Ctrl】+【w】
视窗交互式放大 【[】
视窗交互式缩小 【]】
轨迹视图
加入(Add)关键帧 【A】
前一时间单位 【<】
下一时间单位 【>】
编辑(Edit)关键帧模式 【E】
编辑区域模式 【F3】
编辑时间模式 【F2】
展开对象（Object）切换 【O】
展开轨迹（Track）切换 【T】
函数(Function)曲线模式 【F5】或【F】
锁定所选物体 【空格】
向上移动高亮显示 【↓】
向下移动高亮显示 【↑】
向左轻移关键帧 【←】
向右轻移关键帧 【→】
位置区域模式 【F4】
回到上一场景*作 【Ctrl】+【A】
撤消场景*作 【Ctrl】+【Z】
用前一次的配置进行渲染 【F9】
渲染配置 【F10】
向下收拢 【Ctrl】+【↓】
向上收拢 【Ctrl】+【↑】
材质编辑器
用前一次的配置进行渲染 【F9】
渲染配置 【F10】
撤消场景*作 【Ctrl】+【Z】
示意(Schematic)视图
下一时间单位 【>】
前一时间单位 【<】
回到上一场景*作 【Ctrl】+【A】
撤消场景*作 【Ctrl】+【Z】
Active Shade
绘制(Draw)区域 【D】
渲染(Render) 【R】
锁定工具栏(泊坞窗) 【空格】
视频编辑
加入过滤器(Filter)项目 【Ctrl】+【F】
加入输入(Input)项目 【Ctrl】+【I】
加入图层(Layer)项目 【Ctrl】+【L】
加入输出(Output)项目 【Ctrl】+【O】
加入(Add)新的项目 【Ctrl】+【A】
加入场景(Scene)事件 【Ctrl】+【s】
编辑(Edit)当前事件 【Ctrl】+【E】
执行(Run)序列 【Ctrl】+【R】
新(New)的序列 【Ctrl】+【N】
撤消场景*作 【Ctrl】+【Z】
NURBS编辑
CV 约束法线(Normal)移动 【Alt】+【N】
CV 约束到U向移动 【Alt】+【U】
CV 约束到V向移动 【Alt】+【V】
显示曲线(Curves) 【Shift】+【Ctrl】+【C】
显示控制点(Dependents) 【Ctrl】+【D】
显示格子(Lattices) 【Ctrl】+【L】
NURBS面显示方式切换 【Alt】+【L】
显示表面(Surfaces) 【Shift】+【Ctrl】+【s】
显示工具箱(Toolbox) 【Ctrl】+【T】
显示表面整齐(Trims) 【Shift】+【Ctrl】+【T】
根据名字选择本物体的子层级 【Ctrl】+【H】
锁定2D 所选物体 【空格】
选择U向的下一点 【Ctrl】+【→】
选择V向的下一点 【Ctrl】+【↑】
选择U向的前一点 【Ctrl】+【←】
选择V向的前一点 【Ctrl】+【↓】
根据名字选择子物体 【H】
柔软所选物体 【Ctrl】+【s】
转换到Curve CV 层级 【Alt】+【Shift】+【Z】
转换到Curve 层级 【Alt】+【Shift】+【C】
转换到Imports 层级 【Alt】+【Shift】+【I】
转换到Point 层级 【Alt】+【Shift】+【P】
转换到Surface CV 层级 【Alt】+【Shift】+【V】
转换到Surface 层级 【Alt】+【Shift】+【S】
转换到上一层级 【Alt】+【Shift】+【T】
转换降级 【Ctrl】+【X】
FFD
转换到控制点(Control Point)层级 【Alt】+【Shift】+【C】
到格点(Lattice)层级 【Alt】+【Shift】+【L】
到设置体积(Volume)层级 【Alt】+【Shift】+【S】
转换到上层级 【Alt】+【Shift】+【T】
打开的UVW贴图
进入编辑(Edit)UVW模式 【Ctrl】+【E】
调用*.uvw文件 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【L】
保存UVW为*.uvw格式的文件 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【S】
打断(Break)选择点 【Ctrl】+【B】
分离(Detach)边界点 【Ctrl】+【D】
过滤选择面 【Ctrl】+【空格】
水平翻转 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【B】
垂直(Vertical)翻转 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【V】
冻结(Freeze)所选材质点 【Ctrl】+【F】
隐藏(Hide)所选材质点 【Ctrl】+【H】
全部解冻(unFreeze) 【Alt】+【F】
全部取消隐藏(unHide) 【Alt】+【H】
从堆栈中获取面选集 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【F】
从面获取选集 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【V】
锁定所选顶点 【空格】
水平镜象 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【N】
垂直镜象 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【M】
水平移动 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【J】
垂直移动 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【K】
平移视图 【Ctrl】+【P】
象素捕捉 【S】
平面贴图面/重设UVW 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【R】
水平缩放 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【I】
垂直缩放 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【O】
移动材质点 【Q】
旋转材质点 【W】
等比例缩放材质点 【E】
焊接(Weld)所选的材质点 【Alt】+【Ctrl】+【W】
焊接(Weld)到目标材质点 【Ctrl】+【W】
Unwrap的选项(Options) 【Ctrl】+【O】
更新贴图(Map) 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【M】
将Unwrap视图扩展到全部显示 【Alt】+【Ctrl】+【Z】
框选放大Unwrap视图 【Ctrl】+【Z】
将Unwrap视图扩展到所选材质点的大小 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【Z】
缩放到Gizmo大小 【Shift】+【空格】
缩放(Zoom)工具 【Z】
反应堆(Reactor)
建立(Create)反应(Reaction) 【Alt】+【Ctrl】+【C】
删除(Delete)反应(Reaction) 【Alt】+【Ctrl】+【D】
编辑状态(State)切换 【Alt】+【Ctrl】+【s】
设置最大影响(Influence) 【Ctrl】+【I】
设置最小影响(Influence) 【Alt】+【I】
设置影响值(Value) 【Alt】+【Ctrl】+【V】
ActiveShade (Scanline)
初始化 【P】
更新 【U】
宏编辑器
累积计数器 【Q 】
CAD快捷键一览
cad快捷键
快捷键 注释 快捷键 注释
A ARC(画弧) IN INTERSECT(求交)
AA AREA(测量面积) L LINE(画线)
AR ARRAY(阵列) LA LAYER(建立图层)
ATT ATTDEF(定义属性) LE QLEADER(快速导引线标注)
ATE ATTEDIT(编辑属性) LEN LENGTHEN(加长)
B BLOCK(定义图块) LI LIST(列表)
BH BHATCH(图案填充) LT LINETYPE(设置线型)
BR BREAK(打断) LTS LTSCALE(设置线型比例)
C CIRCLE(画圆) M MOVE(移动)
CH PROPERTIES(特性修改) MA MATCHPROP(属性匹配)
CHA CHAMFER(倒斜角) ME MEASURE(测量)
COL COLOR(改变物体颜色) MI MIRROR(镜像)
CO COPY(复制) ML MLINE(画多线)
D DIMSTYLE(设置标柱样式) MT MTEXT(多行文字)
DAL DIMALIGNED(对齐标注) O OFFSET(偏移)
DAN DIMANGULAR(角度标注) OP OPTIONS(系统设置)
DBA DIMBASELINE(基线标料) OS OSNAP(物体捕捉)
DCE DIMCENTER(圆心标注) P PAN(视图平移)
DCO DIMCONTINUE(连续标注) PE PEDIT(复和线编辑)
DDI DIMDIAMETER(直径标注) PL PLINE(复合线)
DED DIMEDIT(标注编辑) PO POINT(画点)
DI DIST(测量距离) POL POLYGON(画正多边形)
DIV DIVIDE(等分) PRE PREVIEW(视图预览)
DLI DIMLINEAR(线性标注) PRINT PLOT(打印)
DO DONUT(圆环) R REDRAW(重画)
DOR DIMORDINATE(坐标标注) RE REGEN(重新生成)
DOV DIMOVERRIDE(尺寸更新) REC RECTANGLE(画矩形)
DR DRAWORDER() REN RENAME(改名)
DRA DIMRADIUS(半径标注) RO ROTATE(旋转)
DS DSETTINGS(草图设置) S STRETCH(伸展)
DT DTEXT(动态文本) SC SCALE(比例缩放)
E ERASE(删除) SN SNAP(栅格点捕捉)
ED DDEDIT() SPL SPLINE(画样条曲线)
EL ELLIPSE(画椭圆) SPE SPLINEKIT(编辑样条曲线)
EX EXTEND(延伸到) ST STYLE(设置文字样式)
EXIT QUIT(退出) T MTEXT(多行文字)
EXP EXPORT(炸开) TO TOOLBAR(调用工具条)
F FILLET(倒圆角) TR TRIM(修剪)
G GROUP(成组) UN UNITS(设置单位)
HE HATCHEDIT(图案填充编辑) W WBLOCK(块存盘)
I INSERT(插入块) Z ZOOM(视图缩放)
IMP IMPORT(导入)
2打开help文件，搜Keyboard Shortcuts for HFSS General Purposes可见有哪些快捷键。
Ⅷ ADS2008仿真软件 仿真混频器波形，怎么调节仿真框图里Y轴数值大小
双击图，在“PlotOptions”里选择“YAxis”，去掉"AutoScale"，并指定Y轴显示数值范围。根据你的要求，Min设置为-160；Max设为-20，Step设为20即可。