Ⅰ ADS2012中的互感器在哪裡
您好，
步驟一： ADS2012 破解版，安裝。
步驟二：解壓ADS_2012.8_crack下的EEsof_licence_tools_patch.rar，把解壓出來的文件覆蓋ADS安裝目錄EEsof_licence_tools->bin文件夾下的文件，重啟電腦。
步驟三：打開ADS_2012.8_crack下的EEsof_licence_tools_patch文件夾，運行Imtools.exe，在系統設置欄目復制Ethernet Address框字元，
步驟四：找到ADS_2012.8_crack下的licence.lic，用記事本打開，把所有的FFFFFFFFFFFFFFFF替換成步驟三復制的字元，保存關閉。
步驟五：打開安裝目錄下的EEsof_licence_tools->bin文件夾，運行aglmmgr.exe，
點擊ok。
步驟六：替換licence文件，點擊Add找到步驟四的licence.lic，點擊Next，稍作等待，到此，破解完成，可以正常使用了。
Ⅱ ADS模擬使用S參數，可是輸出的S11和S22是以史密斯原圖的形式給出，能不能怎麼設置才能用坐標軸的形式表示
我記得默認模擬完彈出個空白窗口，然後在裡面添加各種坐標形式的圖就行了啊，只要你添加好了，以後變了參數還是會自動更新的
Ⅲ ads中版圖怎樣才能使分立元件之間的走線特性阻抗為50ohm
十八屆五中全會提出了「創新、協調、綠色、開放、共享」的五大發展理念，集中反映了我們黨對經濟社會發展規律認識的深化，極大豐富了馬克思主義發展觀，為我們黨帶領全國人民奪取全面建成小康社會決戰階段的偉大勝利，不斷開拓發展新境界，提供了強大思想武器。其重大意義正如全會所指出，這是關系我國發展全局的一場深刻變革，影響將十分深遠。
創新發展是「十三五」時期經濟結構實現戰略性調整的關鍵驅動因素，是實現「五位一體」總體布局下全面發展的根本支撐和關鍵動力；協調發展是全面建成小康社會之「全面」的重要保證，是提升發展整體效能、推進事業全面進步的有力保障；綠色發展是實現生產發展、生活富裕、生態良好的文明發展道路的歷史選擇，是通往人與自然和諧境界的必由之路；開放發展是中國基於改革開放成功經驗的歷史總結，也是拓展經濟發展空間、提升開放型經濟發展水平的必然要求；共享發展是社會主義的本質要求，是社會主義制度優越性的集中體現，也是我們黨堅持全心全意為人民服務根本宗旨的必然選擇。
Ⅳ ADS射頻模擬軟體中，在電路圖schematic窗口中，如何給電路上的一條信號線添加新的節點名
工具欄內有一個NAME的圖標，點擊即可添加節點名稱
Ⅳ ADS的ADS軟體的模擬分析法
2.1 高頻SPICE分析和卷積分析（Convolution）
高頻SPICE分析方法提供如SPICE模擬器般的瞬態分析，可分析線性與非線性電路的瞬態效應。在SPICE模擬器中，無法直接使用的頻域分析模型，如微帶線帶狀線等，可於高頻SPICE模擬器中直接使用，因為在模擬時可於高頻SPICE模擬器會將頻域分析模型進行拉式變換後進行瞬態分析，而不需要使用者將該模型轉化為等效RLC電路。因此高頻SPICE除了可以做低頻電路的瞬態分析，也可以分析高頻電路的瞬態響應。此外高頻SPICE也提供瞬態雜訊分析的功能，可以用來模擬電路的瞬態雜訊，如振盪器或鎖相環的jitter。
卷積分析方法為架構在SPICE高頻模擬器上的高級時域分析方法，藉由卷積分析可以更加准確的用時域的方法分析於頻率相關的元件，如以S參數定義的元件、傳輸線、微帶線等。
2.2 線性分析
線性分析為頻域的電路模擬分析方法，可以將線性或非線性的射頻與微波電路做線性分析。當進行線性分析時，軟體會先針對電路中每個元件計算所需的線性參數，如S、Z、Y和H參數、電路阻抗、雜訊、反射系數、穩定系數、增益或損耗等（若為非線性元件則計算其工作點之線性參數），在進行整個電路的分析、模擬。
2.3 諧波平衡分析( Harmonic Balance)
諧波平衡分析提供頻域、穩態、大信號的電路分析模擬方法，可以用來分析具有多頻輸入信號的非線性電路，得到非線性的電路響應，如雜訊、功率壓縮點、諧波失真等。與時域的SPICE模擬分析相比較，諧波平衡對於非線性的電路分析，可以提供一個比較快速有效的分析方法。
諧波平衡分析方法的出現填補了SPICE的瞬態響應分析與線性S參數分析對具有多頻輸入信號的非線性電路模擬上的不足。尤其在現今的高頻通信系統中，大多包含了混頻電路結構，使得諧波平衡分析方法的使用更加頻繁，也越趨重要。
另外針對高度非線性電路，如鎖相環中的分頻器，ADS也提供了瞬態輔助諧波平衡(Transient Assistant HB)的模擬方法，在電路分析時先執行瞬態分析，並將此瞬態分析的結果作為諧波平衡分析時的初始條件進行電路模擬，藉由此種方法可以有效地解決在高度非線性的電路分析時會發生的不收斂情況。
2.4 電路包絡分析（Circuit Envelope）
電路包絡分析包含了時域與頻域的分析方法，可以使用於包含調頻信號的電路或通信系統中。電路包絡分析借鑒了SPICE與諧波平衡兩種模擬方法的優點，將較低頻的調頻信號用時域SPICE模擬方法來分析，而較高頻的載波信號則以頻域的諧波平衡模擬方法進行分析
2.5 射頻系統分析
射頻系統分析方法提供使用者模擬評估系統特性，其中系統的電路模型除可以使用行為級模型外，也可以使用元件電路模型進行慣用響應驗證。射頻系統模擬分析包含了上述的線性分析、諧波平衡分析和電路包絡分析，分別用來驗證射頻系統的無源元件與線性化系統模型特性、非線性系統模型特性、具有數字調頻信號的系統特性。
2.6 拖勒密分析（Ptolemy）
拖勒密分析方法具有可以模擬同時具有數字信號與模擬、高頻信號的混合模式系統能力。ADS中分別提供了數字元件模型（如FIR濾波器、IIR濾波器，AND邏輯門、OR邏輯門等）、通信系統元件模型（如QAM調頻解調器、Raised Cosine濾波器等）及模擬高頻元件模型（如IQ編碼器、切比雪夫濾波器、混頻器等）可供使用。
2.7 電磁模擬分析(Momentum)
ADS軟體提供了一個2.5D的平面電磁模擬分析功能——Momentum（ADS2005A版本Momentum已經升級為3D電磁模擬器），可以用來模擬微帶線、帶狀線、共面波導等的電磁特性，天線的輻射特性，以及電路板上的寄生、耦合效應。所分析的S參數結果可直接使用於諧波平衡和電路包絡等電路分析中，進行電路設計與驗證。在Momentum電磁分析中提供兩種分析模式：Momentum微波模式即Momentum和Momentum射頻模式即Momentum RF；使用者可以根據電路的工作頻段和尺寸判斷、選擇使用。
Ⅵ 畢業設計如何在ads上用同軸線實現巴特沃斯微波低通濾波器
具體要求有嗎？
Ⅶ 求安捷倫ADS2009快捷鍵;Ansoft ——HFSS13快捷鍵,不勝感激
1、3DMAX2009快捷鍵大全
顯示降級適配（開關） 【O】
適應透視圖格點 【Shift】+【Ctrl】+【A】
排列 【Alt】+【A】
角度捕捉(開關) 【A】
動畫模式 (開關) 【N】
改變到後視圖 【K】
背景鎖定(開關) 【Alt】+【Ctrl】+【B】
前一時間單位 【.】
下一時間單位 【,】
改變到上（Top）視圖 【T】
改變到底(Bottom)視圖 【B】
改變到相機(Camera)視圖 【C】
改變到前（Front）視圖 【F】
改變到等大的用戶(User)視圖 【U】
改變到右(Right)視圖 【R】
改變到透視（Perspective）圖 【P】
循環改變選擇方式 【Ctrl】+【F】
默認燈光(開關) 【Ctrl】+【L】
刪除物體 【DEL】
當前視圖暫時失效 【D】
是否顯示幾何體內框(開關) 【Ctrl】+【E】
顯示第一個工具條 【Alt】+【1】
專家模式�全屏(開關) 【Ctrl】+【X】
暫存(Hold)場景 【Alt】+【Ctrl】+【H】
取回(Fetch)場景 【Alt】+【Ctrl】+【F】
凍結所選物體 【6】
跳到最後一幀 【END】
跳到第一幀 【HOME】
顯示/隱藏相機（Cameras） 【Shift】+【C】
顯示/隱藏幾何體(Geometry) 【Shift】+【O】
顯示/隱藏網格(Grids) 【G】
顯示/隱藏幫助(Helpers)物體 【Shift】+【H】
顯示/隱藏光源(Lights) 【Shift】+【L】
顯示/隱藏粒子系統(Particle Systems) 【Shift】+【P】
顯示/隱藏空間扭曲(Space Warps)物體 【Shift】+【W】
鎖定用戶界面(開關) 【Alt】+【0】
匹配到相機(Camera)視圖 【Ctrl】+【C】
材質(Material)編輯器 【M】
最大化當前視圖 (開關) 【W】
腳本編輯器 【F11】
新的場景 【Ctrl】+【N】
法線(Normal)對齊 【Alt】+【N】
向下輕推網格 小鍵盤【-】
向上輕推網格 小鍵盤【+】
NURBS表面顯示方式 【Alt】+【L】或【Ctrl】+【4】
NURBS調整方格1 【Ctrl】+【1】
NURBS調整方格2 【Ctrl】+【2】
NURBS調整方格3 【Ctrl】+【3】
偏移捕捉 【Alt】+【Ctrl】+【空格】
打開一個MAX文件 【Ctrl】+【O】
平移視圖 【Ctrl】+【P】
互動式平移視圖 【I】
放置高光(Highlight) 【Ctrl】+【H】
播放/停止動畫 【/】
快速(Quick)渲染 【Shift】+【Q】
回到上一場景*作 【Ctrl】+【A】
回到上一視圖*作 【Shift】+【A】
撤消場景*作 【Ctrl】+【Z】
撤消視圖*作 【Shift】+【Z】
刷新所有視圖 【1】
用前一次的參數進行渲染 【Shift】+【E】或【F9】
渲染配置 【Shift】+【R】或【F10】
在xy/yz/zx鎖定中循環改變 【F8】
約束到X軸 【F5】
約束到Y軸 【F6】
約束到Z軸 【F7】
旋轉(Rotate)視圖模式 【Ctrl】+【R】或【V】
保存(Save)文件 【Ctrl】+【S】
透明顯示所選物體(開關) 【Alt】+【X】
選擇父物體 【PageUp】
選擇子物體 【PageDown】
根據名稱選擇物體 【H】
選擇鎖定(開關) 【空格】
減淡所選物體的面(開關) 【F2】
顯示所有視圖網格(Grids)(開關) 【Shift】+【G】
顯示/隱藏命令面板 【3】
顯示/隱藏浮動工具條 【4】
顯示最後一次渲染的圖畫 【Ctrl】+【I】
顯示/隱藏主要工具欄 【Alt】+【6】
顯示/隱藏安全框 【Shift】+【F】
*顯示/隱藏所選物體的支架 【J】
顯示/隱藏工具條 【Y】/【2】
百分比(Percent)捕捉(開關) 【Shift】+【Ctrl】+【P】
打開/關閉捕捉(Snap) 【S】
循環通過捕捉點 【Alt】+【空格】
聲音(開關) 【\\】
間隔放置物體 【Shift】+【I】
改變到光線視圖 【Shift】+【4】
循環改變子物體層級 【Ins】
子物體選擇(開關) 【Ctrl】+【B】
帖圖材質(Texture)修正 【Ctrl】+【T】
加大動態坐標 【+】
減小動態坐標 【-】
激活動態坐標(開關) 【X】
精確輸入轉變數 【F12】
全部解凍 【7】
根據名字顯示隱藏的物體 【5】
刷新背景圖像(Background) 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【B】
顯示幾何體外框(開關) 【F4】
視圖背景(Background) 【Alt】+【B】
用方框(Box)快顯幾何體(開關) 【Shift】+【B】
打開虛擬現實 數字鍵盤【1】
虛擬視圖向下移動 數字鍵盤【2】
虛擬視圖向左移動 數字鍵盤【4】
虛擬視圖向右移動 數字鍵盤【6】
虛擬視圖向中移動 數字鍵盤【8】
虛擬視圖放大 數字鍵盤【7】
虛擬視圖縮小 數字鍵盤【9】
實色顯示場景中的幾何體(開關) 【F3】
全部視圖顯示所有物體 【Shift】+【Ctrl】+【Z】
*視窗縮放到選擇物體范圍（Extents） 【E】
縮放范圍 【Alt】+【Ctrl】+【Z】
視窗放大兩倍 【Shift】+數字鍵盤【+】
放大鏡工具 【Z】
視窗縮小兩倍 【Shift】+數字鍵盤【-】
根據框選進行放大 【Ctrl】+【w】
視窗互動式放大 【[】
視窗互動式縮小 【]】
軌跡視圖
加入(Add)關鍵幀 【A】
前一時間單位 【<】
下一時間單位 【>】
編輯(Edit)關鍵幀模式 【E】
編輯區域模式 【F3】
編輯時間模式 【F2】
展開對象（Object）切換 【O】
展開軌跡（Track）切換 【T】
函數(Function)曲線模式 【F5】或【F】
鎖定所選物體 【空格】
向上移動高亮顯示 【↓】
向下移動高亮顯示 【↑】
向左輕移關鍵幀 【←】
向右輕移關鍵幀 【→】
位置區域模式 【F4】
回到上一場景*作 【Ctrl】+【A】
撤消場景*作 【Ctrl】+【Z】
用前一次的配置進行渲染 【F9】
渲染配置 【F10】
向下收攏 【Ctrl】+【↓】
向上收攏 【Ctrl】+【↑】
材質編輯器
用前一次的配置進行渲染 【F9】
渲染配置 【F10】
撤消場景*作 【Ctrl】+【Z】
示意(Schematic)視圖
下一時間單位 【>】
前一時間單位 【<】
回到上一場景*作 【Ctrl】+【A】
撤消場景*作 【Ctrl】+【Z】
Active Shade
繪制(Draw)區域 【D】
渲染(Render) 【R】
鎖定工具欄(泊塢窗) 【空格】
視頻編輯
加入過濾器(Filter)項目 【Ctrl】+【F】
加入輸入(Input)項目 【Ctrl】+【I】
加入圖層(Layer)項目 【Ctrl】+【L】
加入輸出(Output)項目 【Ctrl】+【O】
加入(Add)新的項目 【Ctrl】+【A】
加入場景(Scene)事件 【Ctrl】+【s】
編輯(Edit)當前事件 【Ctrl】+【E】
執行(Run)序列 【Ctrl】+【R】
新(New)的序列 【Ctrl】+【N】
撤消場景*作 【Ctrl】+【Z】
NURBS編輯
CV 約束法線(Normal)移動 【Alt】+【N】
CV 約束到U向移動 【Alt】+【U】
CV 約束到V向移動 【Alt】+【V】
顯示曲線(Curves) 【Shift】+【Ctrl】+【C】
顯示控制點(Dependents) 【Ctrl】+【D】
顯示格子(Lattices) 【Ctrl】+【L】
NURBS面顯示方式切換 【Alt】+【L】
顯示表面(Surfaces) 【Shift】+【Ctrl】+【s】
顯示工具箱(Toolbox) 【Ctrl】+【T】
顯示表面整齊(Trims) 【Shift】+【Ctrl】+【T】
根據名字選擇本物體的子層級 【Ctrl】+【H】
鎖定2D 所選物體 【空格】
選擇U向的下一點 【Ctrl】+【→】
選擇V向的下一點 【Ctrl】+【↑】
選擇U向的前一點 【Ctrl】+【←】
選擇V向的前一點 【Ctrl】+【↓】
根據名字選擇子物體 【H】
柔軟所選物體 【Ctrl】+【s】
轉換到Curve CV 層級 【Alt】+【Shift】+【Z】
轉換到Curve 層級 【Alt】+【Shift】+【C】
轉換到Imports 層級 【Alt】+【Shift】+【I】
轉換到Point 層級 【Alt】+【Shift】+【P】
轉換到Surface CV 層級 【Alt】+【Shift】+【V】
轉換到Surface 層級 【Alt】+【Shift】+【S】
轉換到上一層級 【Alt】+【Shift】+【T】
轉換降級 【Ctrl】+【X】
FFD
轉換到控制點(Control Point)層級 【Alt】+【Shift】+【C】
到格點(Lattice)層級 【Alt】+【Shift】+【L】
到設置體積(Volume)層級 【Alt】+【Shift】+【S】
轉換到上層級 【Alt】+【Shift】+【T】
打開的UVW貼圖
進入編輯(Edit)UVW模式 【Ctrl】+【E】
調用*.uvw文件 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【L】
保存UVW為*.uvw格式的文件 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【S】
打斷(Break)選擇點 【Ctrl】+【B】
分離(Detach)邊界點 【Ctrl】+【D】
過濾選擇面 【Ctrl】+【空格】
水平翻轉 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【B】
垂直(Vertical)翻轉 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【V】
凍結(Freeze)所選材質點 【Ctrl】+【F】
隱藏(Hide)所選材質點 【Ctrl】+【H】
全部解凍(unFreeze) 【Alt】+【F】
全部取消隱藏(unHide) 【Alt】+【H】
從堆棧中獲取面選集 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【F】
從面獲取選集 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【V】
鎖定所選頂點 【空格】
水平鏡象 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【N】
垂直鏡象 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【M】
水平移動 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【J】
垂直移動 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【K】
平移視圖 【Ctrl】+【P】
象素捕捉 【S】
平面貼圖面/重設UVW 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【R】
水平縮放 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【I】
垂直縮放 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【O】
移動材質點 【Q】
旋轉材質點 【W】
等比例縮放材質點 【E】
焊接(Weld)所選的材質點 【Alt】+【Ctrl】+【W】
焊接(Weld)到目標材質點 【Ctrl】+【W】
Unwrap的選項(Options) 【Ctrl】+【O】
更新貼圖(Map) 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【M】
將Unwrap視圖擴展到全部顯示 【Alt】+【Ctrl】+【Z】
框選放大Unwrap視圖 【Ctrl】+【Z】
將Unwrap視圖擴展到所選材質點的大小 【Alt】+【Shift】+【Ctrl】+【Z】
縮放到Gizmo大小 【Shift】+【空格】
縮放(Zoom)工具 【Z】
反應堆(Reactor)
建立(Create)反應(Reaction) 【Alt】+【Ctrl】+【C】
刪除(Delete)反應(Reaction) 【Alt】+【Ctrl】+【D】
編輯狀態(State)切換 【Alt】+【Ctrl】+【s】
設置最大影響(Influence) 【Ctrl】+【I】
設置最小影響(Influence) 【Alt】+【I】
設置影響值(Value) 【Alt】+【Ctrl】+【V】
ActiveShade (Scanline)
初始化 【P】
更新 【U】
宏編輯器
累積計數器 【Q 】
CAD快捷鍵一覽
cad快捷鍵
快捷鍵 注釋 快捷鍵 注釋
A ARC(畫弧) IN INTERSECT(求交)
AA AREA(測量面積) L LINE(畫線)
AR ARRAY(陣列) LA LAYER(建立圖層)
ATT ATTDEF(定義屬性) LE QLEADER(快速導引線標注)
ATE ATTEDIT(編輯屬性) LEN LENGTHEN(加長)
B BLOCK(定義圖塊) LI LIST(列表)
BH BHATCH(圖案填充) LT LINETYPE(設置線型)
BR BREAK(打斷) LTS LTSCALE(設置線型比例)
C CIRCLE(畫圓) M MOVE(移動)
CH PROPERTIES(特性修改) MA MATCHPROP(屬性匹配)
CHA CHAMFER(倒斜角) ME MEASURE(測量)
COL COLOR(改變物體顏色) MI MIRROR(鏡像)
CO COPY(復制) ML MLINE(畫多線)
D DIMSTYLE(設置標柱樣式) MT MTEXT(多行文字)
DAL DIMALIGNED(對齊標注) O OFFSET(偏移)
DAN DIMANGULAR(角度標注) OP OPTIONS(系統設置)
DBA DIMBASELINE(基線標料) OS OSNAP(物體捕捉)
DCE DIMCENTER(圓心標注) P PAN(視圖平移)
DCO DIMCONTINUE(連續標注) PE PEDIT(復和線編輯)
DDI DIMDIAMETER(直徑標注) PL PLINE(復合線)
DED DIMEDIT(標注編輯) PO POINT(畫點)
DI DIST(測量距離) POL POLYGON(畫正多邊形)
DIV DIVIDE(等分) PRE PREVIEW(視圖預覽)
DLI DIMLINEAR(線性標注) PRINT PLOT(列印)
DO DONUT(圓環) R REDRAW(重畫)
DOR DIMORDINATE(坐標標注) RE REGEN(重新生成)
DOV DIMOVERRIDE(尺寸更新) REC RECTANGLE(畫矩形)
DR DRAWORDER() REN RENAME(改名)
DRA DIMRADIUS(半徑標注) RO ROTATE(旋轉)
DS DSETTINGS(草圖設置) S STRETCH(伸展)
DT DTEXT(動態文本) SC SCALE(比例縮放)
E ERASE(刪除) SN SNAP(柵格點捕捉)
ED DDEDIT() SPL SPLINE(畫樣條曲線)
EL ELLIPSE(畫橢圓) SPE SPLINEKIT(編輯樣條曲線)
EX EXTEND(延伸到) ST STYLE(設置文字樣式)
EXIT QUIT(退出) T MTEXT(多行文字)
EXP EXPORT(炸開) TO TOOLBAR(調用工具條)
F FILLET(倒圓角) TR TRIM(修剪)
G GROUP(成組) UN UNITS(設置單位)
HE HATCHEDIT(圖案填充編輯) W WBLOCK(塊存檔)
I INSERT(插入塊) Z ZOOM(視圖縮放)
IMP IMPORT(導入)
2打開help文件，搜Keyboard Shortcuts for HFSS General Purposes可見有哪些快捷鍵。
Ⅷ ADS2008模擬軟體 模擬混頻器波形，怎麼調節模擬框圖里Y軸數值大小
雙擊圖，在「PlotOptions」里選擇「YAxis」，去掉"AutoScale"，並指定Y軸顯示數值范圍。根據你的要求，Min設置為-160；Max設為-20，Step設為20即可。